湖南普照信息材料有限公司是中国国内目前唯一一家从事高精度光掩模基版材料（匀胶铬版）研发、生产与销售的专业厂家。

公司创立于2003年8月，位于长沙国家高新技术产业开发区麓谷，注册资本金10596.530万元，由湖南电子信息产业集团有限公司控股,最终控制人湖南湘投控股集团有限公司，为国有控股企业。

匀胶铬版是一种硬面光掩模材料，即光掩膜基版，它是当前及未来微细加工光掩膜制作的主流感光材料，具有高感光灵敏度、高分辨率、低缺陷密度、耐磨、易清洗、使用寿命长等优点。当前被广泛应用于IC、LCD、PCB、PDP等产品掩膜版的制作，前景相当广阔。

公司着眼于高端、立足国内、面向世界。世界一流的设备和工艺，最高洁净度达到10级的超洁净厂房，以及科学严格的质量保障体系，保证了产品高精度的品质。产品不仅填补国内空白，彻底改变了国内长期以来高精度匀胶铬版几乎全部依靠进口的状况，并出口韩国、日本、美国、德国、台湾、香港等国家和地区，2008年10月匀胶铬版项目被国家发改委授予“国家高技术产业化十年成就奖”，全国获此奖项的仅100个高技术项目，充分肯定了公司在行业内的作用和地位。