南轩（天津）科技有限公司成立于2009年，坐落于天津宝坻中关村科技城，是一家致力于研发、生产、销售及服务为一体的湿法制程设备企业。

公司现有厂房占地面积约12000㎡，其中办公区面积400㎡、洁净间面积500㎡；公司自成立至今，拥有实用新型专利30余项、软件著作5项，发明专利5项。先后获得了国高新技术企业、天津市雏鹰企业、天津市瞪羚企业，创新型中小企业，专精特新中小企业等荣誉称号，并且已经通过ISO9001质量体系，职业健康安全管理体系和环境管理体系认证。公司配备独立专业的研发团队、日本清洗专家和一批经验丰富的专业技术人才，能够为客户提供全套清洗设备解决方案。

公司主要经营产品有4-12吋槽式湿法制程设备以及化学自动供液系统；应用范围涵盖了元素半导体（Si Ge）、化合物半导体（GaAs InP GaP）、宽禁带半导体（SiC GaN）及其他泛半导体行业所需的湿法清洗工艺需求，包含光刻胶去除、金属腐蚀、氧化物刻蚀、炉前清洗以及颗粒物去除等。

公司始终秉承“务实求真、拼搏进取”的企业精神，持续深耕于半导体行业，以匠人精神做好产品与服务，以优质的产品与服务去赢得越来越多客户与市场的认同。