职位描述
光刻工艺曝光工艺显影工艺AR MICRO-LED芯片工艺异常问题解决跨团队协作
工作职责
1、负责 AR Micro-LED 芯片光刻工艺的研发与优化,包括光刻胶选型、曝光参数调试、图案转移工艺设计;
2、保障光刻精度满足 AR 芯片像素尺寸要求,解决图案畸变等工艺异常问题;
3、独立完成工艺实验、数据记录与分析,输出工艺优化方案;
4、配合上下游工艺团队,保障全流程工艺兼容性延、蚀刻等上下游工艺团队紧密协作,保障全流程工艺的兼容性与稳定性。
任职要求
1. 硕士及以上学历,微电子、材料、物理等相关专业。
2. 3年以上半导体光刻工艺研发经验,熟练操作Nikon/Canon/ASML等光刻设备,精通设备参数优化。
3. 掌握光刻原理,可独立完成全流程黄光条件调试,精通CD-SEM/OVL等测试技能。
4. 具备跨团队沟通协作能力,有Micro-LED/显示芯片光刻工艺经验者优先。
1、负责 AR Micro-LED 芯片光刻工艺的研发与优化,包括光刻胶选型、曝光参数调试、图案转移工艺设计;
2、保障光刻精度满足 AR 芯片像素尺寸要求,解决图案畸变等工艺异常问题;
3、独立完成工艺实验、数据记录与分析,输出工艺优化方案;
4、配合上下游工艺团队,保障全流程工艺兼容性延、蚀刻等上下游工艺团队紧密协作,保障全流程工艺的兼容性与稳定性。
任职要求
1. 硕士及以上学历,微电子、材料、物理等相关专业。
2. 3年以上半导体光刻工艺研发经验,熟练操作Nikon/Canon/ASML等光刻设备,精通设备参数优化。
3. 掌握光刻原理,可独立完成全流程黄光条件调试,精通CD-SEM/OVL等测试技能。
4. 具备跨团队沟通协作能力,有Micro-LED/显示芯片光刻工艺经验者优先。
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