离子注入资深工艺工程师

青岛四方思锐智能技术有限公司成立于2018年，总部位于中国青岛，并在北京、上海设有研发中心。思锐智能主要聚焦关键半导体前道工艺设备的研发、生产和销售，提供具有自主可控的核心关键技术的系统装备产品和技术服务方案。公司产品包括原子层沉积（ALD）设备及离子注入（IMP）设备，广泛应用于集成电路、第三代半导体、新能源、光学、零部件镀膜等诸多高精尖领域。2018年，公司完成对ALD技术发源地——芬兰倍耐克公司100%股权的收购工作。思锐智能整合倍耐克海外前沿技术研发资源，开展ALD技术国内外联合研发与国内产业化落地工作，建立了完善的ALD产品体系，覆盖全球众多头部客户并在众多细分领域取得领先的市场竞争地位。目前思锐智能及其子公司拥有300余项相关专利，在ALD技术及应用方面具备雄厚的技术积累。公司在推进ALD业务转型升级后，布局离子注入设备业务并取得突破。思锐智能以高能离子注入机为切入点开展研发，解决国内高端离子注入机”卡脖子“问题，逐步完成硅基及化合物半导体领域全系列机型的布局。思锐智能获评了国家级专精特新“小巨人”称号并承担多项省市级重点研发计划和国际合作项目。依托半导体先进装备研发制造中心，公司已成为拥有全球客户拓展能力的中高端半导体装备生产制造商，业务范围覆盖全球40个国家及地区，累计超过500个全球客户。