400-885-9898
职位描述
蚀刻工艺外延工艺离子注入工艺曝光工艺显影工艺动手能力强善于学习光芯片光通信芯片电子/半导体/集成电路光电子行业电子设备制造
职位描述：
1、负责光芯片干法刻蚀和PECVD工艺的开发、优化与验证；
2、管理干法刻蚀设备，确保设备正常运行，提升工艺良率；
3、分析工艺数据，解决生产中的工艺异常问题；
4、协助新产品导入，优化工艺流程，提高生产效率；
5、编写工艺文件和操作指导书，为生产团队提供技术支持。
2、管理干法刻蚀设备，确保设备正常运行，提升工艺良率；
3、分析工艺数据，解决生产中的工艺异常问题；
4、协助新产品导入，优化工艺流程，提高生产效率；
5、编写工艺文件和操作指导书，为生产团队提供技术支持。
任职资格：
1、本科及以上学历，物理， 化学，材料类等相关专业；
2、应届毕业生或者1年以上半导体干法刻蚀工艺开发经验；
3、了解干法刻蚀工艺原理及设备操作；
4、具备数据分析能力，能够使用相关工具进行工艺优化；
5、学习能力强，具备良好的沟通能力和团队合作精神。
2、应届毕业生或者1年以上半导体干法刻蚀工艺开发经验；
3、了解干法刻蚀工艺原理及设备操作；
4、具备数据分析能力，能够使用相关工具进行工艺优化；
5、学习能力强，具备良好的沟通能力和团队合作精神。
工作地点
江夏区武汉国科光领半导体科技有限公司
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长飞先进半导体(武汉)有限公司
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职位发布者
房女士/HR负责人
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武汉国科光领半导体科技有限公司武汉国科光领半导体科技有限公司由中国科学院半导体所光子集成团队核心力量创办，于武汉东湖高新区注册成立。公司采用IDM模式，涵盖光芯片的研发、设计、制造和销售在内的全部运营业务，主营10G/25G/50G/100G EML、25G DFB、10G/25G DBR、25G VCSEL、大功率激光雷达等系列激光器芯片，定位于25G及以上高端激光器芯片市场。产品可广泛应用于数据中心（云）、电信网络（管）、接入终端（端）领域。公司厂房位置为武汉市东湖高新区湖北日报楚天传媒科创园二期1#厂房一层和二层，总建筑面积5500平米。
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