400-885-9898
职位描述
湿法刻蚀工艺光芯片电子/半导体/集成电路
一、岗位职责
1、优化管理湿法清洗工艺及现有流程，针对不同芯片特性开发定制工艺，跟进新工艺从实验到量产全过程。
2、监控产线工艺运行，解决清洗不彻底、过度腐蚀等问题；协同设备工程师完成设备安装、调试及维护，保障设备正常运行。
3、通过数据分析提升产品良率，制定降本方案，如优化参数减少试剂消耗；建立工艺数据库，为决策提供依据。
4、评估湿法清洗新物料性能；与光刻、刻蚀等部门协作解决跨模块问题，协助完成其他工作。
5、组织员工湿法清洗工艺培训；编写完善工艺操作手册等技术文件。
1、优化管理湿法清洗工艺及现有流程，针对不同芯片特性开发定制工艺，跟进新工艺从实验到量产全过程。
2、监控产线工艺运行，解决清洗不彻底、过度腐蚀等问题；协同设备工程师完成设备安装、调试及维护，保障设备正常运行。
3、通过数据分析提升产品良率，制定降本方案，如优化参数减少试剂消耗；建立工艺数据库，为决策提供依据。
4、评估湿法清洗新物料性能；与光刻、刻蚀等部门协作解决跨模块问题，协助完成其他工作。
5、组织员工湿法清洗工艺培训；编写完善工艺操作手册等技术文件。
二、任职资格
1、本科及以上学历，半导体、微电子、材料科学等相关专业。
2、3 年以上光芯片或半导体行业湿法清洗工艺经验，熟悉光芯片制造流程优先。
3、熟悉湿法清洗原理、设备操作及参数调整；掌握化学试剂特性；具备设备故障诊断和质量控制能力，会用数据分析工具。
4、有问题分析与解决能力，工作认真负责，善于学习，具有协作精神。
1、本科及以上学历，半导体、微电子、材料科学等相关专业。
2、3 年以上光芯片或半导体行业湿法清洗工艺经验，熟悉光芯片制造流程优先。
3、熟悉湿法清洗原理、设备操作及参数调整；掌握化学试剂特性；具备设备故障诊断和质量控制能力，会用数据分析工具。
4、有问题分析与解决能力，工作认真负责，善于学习，具有协作精神。
工作时间：8:30-17:30，周末双休
福利待遇：入职缴纳五险一金，补充商业险，定期体检，带薪年假，零食下午茶，不定期团建活动等，给予员工足够的发展平台和晋升空间！
奖金绩效
13-15薪
工作地点
武汉江夏区楚天传媒科创园
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职位发布者
何女士/HR
昨日活跃立即沟通
武汉国科光领半导体科技有限公司武汉国科光领半导体科技有限公司由中国科学院半导体所光子集成团队核心力量创办，于武汉东湖高新区注册成立。公司采用IDM模式，涵盖光芯片的研发、设计、制造和销售在内的全部运营业务，主营10G/25G/50G/100G EML、25G DFB、10G/25G DBR、25G VCSEL、大功率激光雷达等系列激光器芯片，定位于25G及以上高端激光器芯片市场。产品可广泛应用于数据中心（云）、电信网络（管）、接入终端（端）领域。公司厂房位置为武汉市东湖高新区湖北日报楚天传媒科创园二期1#厂房一层和二层，总建筑面积5500平米。
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