浙江森田新材料有限公司成立于2003年，注册资金2700万美元，是一家由日本森田化学工业株式会社和浙江三美化工股份有限公司共同投资成立的中日合资企业。主要生产微电子蚀刻及清洗级材料，应用于半导体及微电子技术加工和集成电路等行业，是集成电路（IC）制造的关键性基础材料之一。
浙江森田新材料有限公司依托日本森田化学工业株式会社半导体氟化学品的研发与制造的领先技术，以及浙江三美化工股份有限公司成熟的企业生产经营背景，致力于发展成为一家在全球微电子蚀刻材料行业中，技术领先的高新技术企业。