职位描述
1、理解、接收相关的ACHM、Carbon、FCVD、SACVD、Flora、HDP等工艺研发需求,并实现工艺;
2、负责工艺数据的收集,整理和统计分析, 提交完备的实验报告和相关技术文档;
3、使用、维护、管理薄膜材料的分析设备和仪器;
4、按项目计划开展工艺实验;
5、根据项目需求,分析工艺难点,制定完备的工艺研发方案;
6、根据制程产品等需求,优化工艺,提升良率及效率;
7、针对客户端出现工艺问题,提出解决方案、提供技术支持并指导他人;
8、跟踪掌握国内外半导体设备市场动态、半导体制备技术的最新状况与发展趋势。
任职要求
1. 博士学历,材料,化学,物理,微电子相关专业,有光学背景优先考虑;
2. 硕士学历,5年以上半导体工艺开发相关经验;
3. 具备ACHM、Carbon、SACVD、FCVD、HDP、Flora等相关工艺开发经验;
工作地点

公司信息
公司介绍
拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。拓荆在北京、上海、海宁、青岛、沈阳和美国、BVI、新加坡及日本成立子公司。拓荆主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充(Flowable CVD)设备和三维集成 (W2W / D2W Hybrid Bonding) 设备以及相关量测设备等系列,拥有自主知识产权,技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、 先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED 和 Micro-OLED 显示等高端技术领域。拓荆产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的70多条生产线,并设有技术服务中心,为客户提供每周7天,每天24小时的技术支持。 公司已形成一支国际化的专业团队,具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累,公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系,被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2022-2025)”。拓荆总部坐落于沈阳市浑南区,拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房,总建筑面积达40,000平方米,2025年6月,投资近十亿的上海二厂已正式启用,同时投入十多亿筹建沈阳二厂。公司已获得ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证。通过与全球的供应商合作,形成了稳定的供应链系统。拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟,为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。

更新于 5月26日



