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拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是国家高新技术企业，主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。拓荆在北京、上海、海宁、青岛、沈阳和美国、BVI、新加坡及日本成立子公司。拓荆主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备、次常压化学气相沉积(SACVD)设备、高密度等离子体化学气相沉积(HDPCVD)设备、超高深宽比沟槽填充（Flowable CVD）设备和三维集成(W2W/ D2W Hybrid Bonding)设备以及相关量测设备等系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品的先进水平。产品主要应用于集成电路晶圆制造、先进存储和先进封装、HBM、MEMS、Micro-LED和 Micro-OLED显示等高端技术领域。拓荆产品已进入北京、上海、武汉、合肥、天津、台湾等20多个地区的70多条生产线，并设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术支持。公司已形成一支国际化的专业团队，具备高科技研发实力及管理经验。通过多年技术积累，公司已建立自主知识产权的核心技术群及知识产权体系，被国家知识产权局评为“国家知识产权示范企业(2022-2025)”。拓荆总部坐落于沈阳市浑南区，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房，总建筑面积达40,000平方米，2025年6月，投资近十亿的上海二厂已正式启用，同时投入十多亿筹建沈阳二厂。公司已获得ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证。通过与全球的供应商合作，形成了稳定的供应链系统。拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。