1、主导ArF光刻胶核心配方的研发与迭代,优化光敏树脂、光酸产生剂等关键组分的性能,满足先进制程的分辨率与灵敏度要求。
负责浸没式光刻(ArFi)工艺中的水痕缺陷、显影均匀性等问题的分析与解决,提升光刻胶的工艺适配性。
2、推动光刻胶配方从实验室小试到中试放大的技术转移,制定量产工艺参数与质量控制标准。
3、独立完成高压反应釜、精馏塔等设备的操作与维护,保障实验与生产过程的稳定性。
4、任职要求:
有机合成或高分子化学专业博士学历,具备扎实的材料化学理论基础。
拥有TOK、JSR、信越、杜邦等国际大厂,或南大光电、徐州博康等国内头部企业的ArF光刻胶量产经验。
精通阴离子聚合、自由基聚合等可控聚合技术,能独立设计高分子合成路线并解决反应过程中的技术难题。
熟悉浸没式光刻工艺,掌握水痕缺陷控制、显影工艺优化等关键技术点。
具备中试放大经验,能将实验室配方转化为可量产的工艺方案。5、补充说明
优先考虑:有电子级化学品纯化经验者。