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更新于 2月4日
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黄光工艺高级工程师（滁州）

1.5-2万·13薪
  • 滁州南谯区
  • 3-5年
  • 本科
  • 全职
  • 招1人

职位描述

光刻工艺曝光工艺MASK制造电子/半导体/集成电路
岗位职责:
1、曝光工艺开发与优化：
    • 主导FMM黄光制程中的曝光工艺开发、优化与量产导入，聚焦接触式/接近式曝光技术。
    • 精通曝光参数（能量、焦距、间隙Gap、对准精度、照明均匀性等）对CD、CDU、OVL的影响机理，设计并执行DOE实验进行精细化调优。
    • 优化掩膜版（Reticle/Mask）管理及使用策略，减少因掩膜版导致的曝光缺陷和偏差。
    • 探索并评估新型曝光技术或方案在FMM应用中的潜力。
    • 2、曝光设备工艺能力维护与提升：
    • 深入理解接触式/接近式曝光机（如SUSS MA/BA系列、EVG或其他同类设备）的工作原理、构造及性能极限。
    • 负责曝光设备的工艺能力（Cp/Cpk）评估、监控（SPC）与持续提升。
    主导或深度参与曝光机的日常工艺维护、校准（如光强均匀性校准、焦距校准、对准系统校准）及稳定性验证。
    • 与设备工程师紧密合作，诊断并解决曝光设备硬件故障或性能下降对工艺造成的影响，提出有效的改善措施和预防性维护（PM）优化建议。
3、曝光相关缺陷分析与良率提升：
    • 主导解决由曝光环节引起的各类缺陷和良率问题（如：CD偏差过大、CDU不良、套刻不良、曝光不良（Underexposure/Overexposure）、图形畸变、沾污、牛顿环等）。
    • 运用8D、鱼骨图等工具进行根本原因分析（RCA），制定并落实CAPA。
4、工艺整合与跨部门协作：
    • 与涂胶（Coating）、显影（Development）等前/后道工艺工程师紧密协作，确保整个黄光制程的匹配性与稳定性，特别关注胶厚均匀性、前烘/后烘条件对曝光效果的影响。
    • 与量测（Metrology）团队合作，优化曝光关键参数的监控方案（如在线/离线CD量测、OVL量测）。
    • 为新设备选型、验收提供工艺角度的专业评估和建议。
5、文档、培训与新技术：
    • 建立、维护和更新曝光工艺的SOP、控制计划及技术文档。
    • 对生产和技术人员进行曝光工艺原理、操作规范及问题处理的基础培训。
    • 跟踪曝光技术领域的新发展（设备、材料、方法）。
6、完成领导交办的其他相关工作事项。
任职要求 :
1、教育背景：
    • 本科及以上学历，微电子、光学工程、物理、精密仪器、机械工程、材料科学与工程、自动化等相关专业优先。
2、工作经验：
    • 5年及以上半导体、显示面板（OLED FMM 经验尤佳）、MEMS或高精度光刻行业的黄光/光刻工艺经验。
    • 必须具备3年以上深度接触/接近式曝光工艺开发、优化及设备维护的实战经验。 有FMM行业曝光经验者高度优先。
    • 有主导或深度参与曝光相关良率提升项目的成功案例。
3、核心技能 (曝光重点)：
    • 精通曝光原理与技术： 深刻理解接触式/接近式曝光的光学原理（柯勒照明、部分相干性、衍射效应等）、成像机理及其在FMM图形化中的应用。
    • 曝光设备专家级能力：
      • 熟练掌握主流接触式/接近式曝光机（如SUSS MA/BA, EVG等）的操作、日常工艺维护、校准（光强、焦距、对准）及故障排查。
      • 深入理解设备关键模块（光源系统、对准系统、聚焦系统、掩膜台/晶圆台、控制系统）及其对工艺的影响。
      • 具备基础的设备硬件知识，能与设备工程师有效沟通。
    • 参数优化与数据分析： 精通曝光参数（Energy, Focus, Gap等）优化方法；熟练运用DOE、SPC、FMEA等工具进行数据分析和工艺控制。
    • 精密量测与缺陷分析： 熟悉CD-SEM、OVL量测设备、显微镜等在曝光工艺评估中的应用；具备较强的缺陷识别和根源分析能力。
    • 掩膜版知识： 了解掩膜版制作、使用、维护及其对曝光质量的影响。
4、软技能：
    • 出色的分析问题、解决问题能力和严谨的逻辑思维。
    • 优秀的沟通协调能力、团队合作精神和责任心。
    • 积极主动，能承受压力，具备良好的动手能力和现场快速响应能力。
5、语言能力：
    • 流利中文。
    • 能阅读英文设备手册、技术资料。
6、身体健康，无犯罪记录。
优先考虑条件
  • OLED FMM行业曝光工艺经验。
  • 拥有特定品牌曝光机（如SUSS, EVG）的深度操作、维护或工艺支持经验。
  • 熟悉激光干涉仪等精密测量仪器在曝光机校准中的应用。
  • 了解光刻胶特性及其与曝光工艺的交互作用。
  • 有曝光设备供应商技术支持或设备工程师背景者。
  • 熟悉AutoCAD或相关绘图软件用于简单版图查看或问题分析。

工作地点

南谯区拓维光电材料(滁州)有限公司
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成都拓维成立于2017年，翰博高新全资子公司，为客户提供OLED Mask服务，实现国内现地配套，填补国内产业链空白。一期清洗业务提供精密再生服务，一期CMM制造业务提供CMM制造服务，二期规划FMM制造业务和CMM扩产，以及G8.6代线OLED用金属掩膜研发制造和清洗业务。OLED Mask精密再生是首个翰博集团战略转型半导体显示材料的项目。翰博⾼新为深交所创业板上市企业，自2009年诞生便始终专注于半导体显示科技，致力于为半导体显示行业提供系统解决方案，是一家集显示设计、光学开发、半导体显示材料、智能制造、供应链整合于一身的系统方案供应商；拥有合肥、滁州、重庆、成都、广州五大制造基地；翰博高新历经数年稳健发展，拥有导光板和RTP等重要技术工艺，现已研发设计出光模组、偏光片、光学膜材等多款产品，被广泛应用于通讯、汽车、影音、电脑等领域的半导体显示终端，拥有强大的自主技术研发能力，为人们的工作与生活带来完美的视觉享受。拓维光电材料（滁州）有限公司是成都拓维全资子公司，成立于2022年5月，是一家专注于OLED显示关键原材FMM（精密金属掩膜版）研发与制造并提供Mask解决方案的高新科技企业。公司以成为行业首选合作伙伴为愿景，以产业报国、科技创新为使命，致力于打破国外技术垄断，实现FMM国产化，成为行业领先者。
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