更新于 5月10日
职位描述
光刻工艺曝光工艺显影工艺SIC晶圆FAB产线DUV光刻机操作DOE实验
工作职责
1. 负责SiC晶圆FAB产线的光刻工艺开发与优化，包括光刻胶选型、曝光参数调试及显影工艺验证，保障图形转移精度与良率。
2. 主导光刻工艺异常分析与解决，针对SiC材料的高硬度、高化学稳定性特性，制定缺陷抑制与工艺改进方案。
3. 协同设备工程师完成光刻设备（如DUV光刻机）的日常维护与工艺匹配，确保设备稳定性与产能达标。
4. 建立光刻工艺参数数据库，输出工艺报告并推动跨部门（如蚀刻、薄膜）的工艺协同优化。
任职要求
1. 本科及以上学历，微电子、材料科学或相关专业，具备SiC半导体制造经验者优先。
2. 3年以上半导体光刻工艺经验，熟悉SiC晶圆光刻流程，掌握光刻胶涂覆、曝光、显影等关键环节的工艺原理。
3. 能独立操作主流光刻设备（如ASML DUV系列），具备光刻工艺参数调试与良率提升的实战能力。
4. 具备较强的数据分析能力，能通过DOE实验优化工艺窗口，解决光刻过程中的套刻精度、图形缺陷等问题。
1. 负责SiC晶圆FAB产线的光刻工艺开发与优化，包括光刻胶选型、曝光参数调试及显影工艺验证，保障图形转移精度与良率。
2. 主导光刻工艺异常分析与解决，针对SiC材料的高硬度、高化学稳定性特性，制定缺陷抑制与工艺改进方案。
3. 协同设备工程师完成光刻设备（如DUV光刻机）的日常维护与工艺匹配，确保设备稳定性与产能达标。
4. 建立光刻工艺参数数据库，输出工艺报告并推动跨部门（如蚀刻、薄膜）的工艺协同优化。
任职要求
1. 本科及以上学历，微电子、材料科学或相关专业，具备SiC半导体制造经验者优先。
2. 3年以上半导体光刻工艺经验，熟悉SiC晶圆光刻流程，掌握光刻胶涂覆、曝光、显影等关键环节的工艺原理。
3. 能独立操作主流光刻设备（如ASML DUV系列），具备光刻工艺参数调试与良率提升的实战能力。
4. 具备较强的数据分析能力，能通过DOE实验优化工艺窗口，解决光刻过程中的套刻精度、图形缺陷等问题。
工作地点
长沙浏阳市金阳新能源产业园
公司信息
泰科天润半导体科技(北京)有限公司
未融资 · 100-299人 · 半导体/芯片、计算机硬件、学术/科研
已审核
公司介绍
泰科天润半导体科技（北京）有限公司[Global Power Technology (Beijing) Co., Ltd.，简称G.P.Tech]是中国SiC功率器件产业化的先驱之一。G.P.Tech致力于中国半导体功率器件制造产业的发展，并向全球功率器件消费者提供优质的半导体功率器件产品和专业服务。G.P.Tech总部紧邻中国国家体育馆鸟巢北部，坐落于中国北京中关村东升科技园北领地内，园区环境优雅。G.P.Tech在北京拥有一座完整的半导体工艺晶圆厂，可在4英寸SiC晶圆上实现半导体功率器件的制造工艺。G.P.Tech的目前产品以600V~1200V SiC肖特基二极管（Schottky diode）为主。G.P.Tech能够为客户提供半导体功率器件应用模块的设计与组合方案，器件及模块的设计和制作严格以客户要求为导向。G.P.Tech正努力与产业同行、科研学者、消费者共同探索与开发SiC功率器件在更多更广领域的应用。G.P.Tech伴随SiC功率器件市场的迸发而创立，并有志站立于中国乃至全球SiC器件研发的前沿。公司地址：北京市海淀区西小口路66号 中关村东升科技园北领地B-1楼西厅邮箱：h-r@globalpowertech.cn
工商信息
企业名称 泰科天润半导体科技（北京）有限公司
企业类型 其他有限责任公司
法人代表 陈彤
经营状态 存续
成立时间 2011-04-21
注册资本 2.88亿元
认证资质
营业执照信息
