职位描述
封装工艺封装测试半导体/芯片
岗位职责
1. 负责12寸半导体后道湿法封装涂胶、显影、湿法清洗/去胶等全流程工艺开发、调试、优化及量产维护,制定标准化工艺参数与工艺菜单(Recipe),保障工艺稳定性与生产连续性。
2. 主导涂胶显影设备(Track机台)、湿法工艺设备的工艺验收、调试与日常工艺管控,跟进设备FAT/SAT验收,解决设备工艺匹配性问题,确保设备工艺性能达标。
3. 负责封装后道涂胶均匀性、显影精度、湿法刻蚀/剥离效果等工艺指标管控,分析工艺缺陷、良率异常、膜厚不均、图形残留等问题,开展根因分析与工艺改善,持续提升产品良率与生产效率。
4. 主导新工艺、新材料、新化学品在涂胶显影及湿法封装工序的导入、验证与评估,完成工艺可行性测试、可靠性验证及工艺文件编制,推进工艺降本与技术迭代。
5. 编制并维护工艺标准作业程序(SOP)、工艺规范、验证报告、异常处理流程等技术文档,建立完善的工艺管控体系,符合半导体行业洁净室及SEMI标准要求。
任职要求
1. 学历专业:统招本科及以上学历
2. 工作经验:2年左右或以上半导体12寸晶圆厂后道封装工艺工作经验,熟悉涂胶、烘烤、显影、湿法清洗/去胶等湿法封装核心工艺,有先进封装厂同岗位经验者优先。
3. 专业技能:
• 熟练掌握涂胶显影Track设备、湿法工艺设备的工作原理、工艺调试、参数优化,熟悉主流品牌设备操作与维护;
• 精通光刻胶特性、湿法化学品配比、工艺参数对封装质量的影响,能独立解决工艺异常、良率波动等现场问题;
• 熟悉半导体后道封装工艺流程、工艺管控要点、产品可靠性测试标准,掌握膜厚仪、缺陷检测仪、显微镜等工艺检测设备的使用与数据分析;
• 具备工艺开发、验证、优化及文档编写能力,能熟练使用Excel、JMP等工具进行工艺数据分析,具备良好的逻辑分析与问题解决能力。
1. 负责12寸半导体后道湿法封装涂胶、显影、湿法清洗/去胶等全流程工艺开发、调试、优化及量产维护,制定标准化工艺参数与工艺菜单(Recipe),保障工艺稳定性与生产连续性。
2. 主导涂胶显影设备(Track机台)、湿法工艺设备的工艺验收、调试与日常工艺管控,跟进设备FAT/SAT验收,解决设备工艺匹配性问题,确保设备工艺性能达标。
3. 负责封装后道涂胶均匀性、显影精度、湿法刻蚀/剥离效果等工艺指标管控,分析工艺缺陷、良率异常、膜厚不均、图形残留等问题,开展根因分析与工艺改善,持续提升产品良率与生产效率。
4. 主导新工艺、新材料、新化学品在涂胶显影及湿法封装工序的导入、验证与评估,完成工艺可行性测试、可靠性验证及工艺文件编制,推进工艺降本与技术迭代。
5. 编制并维护工艺标准作业程序(SOP)、工艺规范、验证报告、异常处理流程等技术文档,建立完善的工艺管控体系,符合半导体行业洁净室及SEMI标准要求。
任职要求
1. 学历专业:统招本科及以上学历
2. 工作经验:2年左右或以上半导体12寸晶圆厂后道封装工艺工作经验,熟悉涂胶、烘烤、显影、湿法清洗/去胶等湿法封装核心工艺,有先进封装厂同岗位经验者优先。
3. 专业技能:
• 熟练掌握涂胶显影Track设备、湿法工艺设备的工作原理、工艺调试、参数优化,熟悉主流品牌设备操作与维护;
• 精通光刻胶特性、湿法化学品配比、工艺参数对封装质量的影响,能独立解决工艺异常、良率波动等现场问题;
• 熟悉半导体后道封装工艺流程、工艺管控要点、产品可靠性测试标准,掌握膜厚仪、缺陷检测仪、显微镜等工艺检测设备的使用与数据分析;
• 具备工艺开发、验证、优化及文档编写能力,能熟练使用Excel、JMP等工具进行工艺数据分析,具备良好的逻辑分析与问题解决能力。
4.可接受出差
工作地点
上海浦东新区盛美半导体临港总部基地

公司信息
公司介绍
盛美成立于2005年,是注册于上海浦东新区张江高科技园区的外资企业,已于2017年正式登陆美国纳斯达克。盛美集研发、设计、制造、销售于一体。由王晖博士带领的团队开发出了具有世界领先的全球专利保护的单片SAPS,TEBO 兆声波技术,高温硫酸清洗技术,以及电镀铜,电抛光技术。王晖博士毕业于清华大学精密仪器系,获得日本大阪大学精密工学科博士学位,并作为海外高层次归国创业人才入选了国家“千人计划”。盛美主要产品有兆声波单片清洗设备,TEBO,背面清洗设备,无应力抛铜设备,TSV深孔清洗设备,干法刻蚀设备,涂胶机,显影机,去胶机,腐蚀机,薄片清洗机,高温硫酸清洗设备,Ultra C Tahoe等。公司具有高新技术企业资质,承担十一五国家科技重大专项和十二五国家科技重大专项的研发。盛美是国内单片清洗设备的最大供应商,现有8,600平米的制造车间,产能50台各种设备/年,可扩张至100台/年。去年实现销售2.4亿元,今年预计有望实现销售成长90%,创历史新高。
工商信息
企业名称 盛美半导体设备(上海)股份有限公司
企业类型 股份有限公司(上市、外商投资企业投资)
法人代表 HUI WANG
经营状态 存续
成立时间 2005-05-17
注册资本 4.8亿元
认证资质
营业执照信息

更新于 今天





