☆☆☆本岗位薪资面议☆☆☆
1、负责碳纳米管MOSFET器件全流程工艺整合,包括光刻、介质层沉积、刻蚀等工序的流程设计、参数调试与兼容性验证。
2、主导开展工艺优化工作,针对器件良率偏低、性能波动、工艺稳定性不足等问题,通过实验设计、数据复盘,定位工艺瓶颈并提出解决方案(如接触优化、界面修饰、工艺参数调整、工序优化等)。
3、负责器件工艺文档的撰写与更新,包括工艺规范(SOP)、实验报告、良率分析报告等,建立完整的工艺数据库,保障工艺可追溯、可复制。
4、配合研发团队完成碳纳米管MOSFET器件性能迭代需求,衔接设计、表征、测试等环节,推动工艺与器件设计的匹配优化;协助量产团队完成工艺放大与落地,解决量产过程中的工艺适配问题。
5、熟练运用工艺表征与电学测试设备(如AFM、SEM、XPS、探针台、半导体参数分析仪等),完成工艺验证、器件测试及数据汇总分析,提炼工艺参数与器件性能的构效关系。
6、参与团队技术交流、项目申报及工艺技术评审,配合完成国家、省部级科研项目或企业量产相关项目的推进工作。
7、博士学历者另要求:能独立承担工艺研发子课题,探索新型碳纳米管MOSFET工艺路线,开展原创性工艺技术研究,撰写高水平学术论文、申请发明专利;指导初级工程师或硕士开展工艺实验。
任职要求:
1、硕士及以上学历,材料科学与工程、微电子学与固体电子学、半导体器件、纳米科学与技术等相关专业,应届生或1-3年相关工作经验均可。
2、具备工艺整合思维,能快速识别各工艺环节的兼容性问题,具备实验设计、参数调试、问题排查与解决的能力(博士需具备独立攻坚能力,硕士需具备协助优化能力)。
3、熟练掌握至少1种半导体工艺相关工具,熟悉光刻、刻蚀、薄膜沉积(PVD/CVD)等基础工艺,能独立操作或协助操作相关工艺设备者优先。
4、能熟练运用器件表征与电学测试设备,具备良好的数据处理、分析与总结能力,能通过数据分析定位工艺问题、优化工艺参数。
5、具备良好的英文读写能力,能阅读英文工艺文献、技术手册;博士需具备英文论文撰写能力,有SCI论文发表或发明专利申请经验者优先。
6、对碳纳米管MOSFET工艺领域有浓厚兴趣,具备严谨的工作态度、较强的责任心和执行力,注重细节(工艺实操核心要求)。
7、具备良好的团队协作精神与沟通能力,能高效对接研发、测试、量产等不同环节的同事,推动工作落地。
8、具备较强的学习能力和抗压能力,能快速适应工艺迭代需求,主动学习新型工艺技术,勇于解决工艺难题。
9、博士学历者另要求:具备较强的创新思维和独立开展工艺研发工作的能力,能主导核心工艺难题的攻坚与技术突破。