刻蚀工程师(10079)

岗位职责：
1、负责AR/MR设备中光学元件（如光波导、微纳结构）的刻蚀工艺开发与优化，包括干法刻蚀（RIE、ICP、RIBE）、湿法刻蚀等；
2、主导工艺整合，解决 类MEMS/半导体工艺 中的关键问题（如侧壁粗糙度、选择比、线宽均匀性等）；
3、配合设计团队完成光学器件的工艺仿真与验证，提升AR显示模组的性能（如光效、对比度、良率等指标）；
4、建立刻蚀工艺标准文件（SOP），主导设备选型、参数调试及量产导入；
5、协助新工艺、新材料的导入及新产品开发；
6、跟踪行业前沿技术（如纳米压印、原子层刻蚀、特殊刻蚀技术等），推动工艺创新与专利布局；
7、部门主管安排的其他工作。
招聘需求：
1、硕士及以上学历，微电子、材料、光学工程、物理等相关专业；
2、三年以上半导体/光学器件刻蚀工艺经验，熟悉 AR光波导、衍射光学元件（DOE） 制备者优先；
3、熟悉刻蚀设备及故障分析，掌握SEM、AFM等表征手段，熟悉前后道工艺；
4、逻辑严谨，能通过DOE实验设计解决复杂工艺问题；
5、对AR/MR行业技术趋势敏感，具备跨部门协作能力（与光学设计、模组团队联动）；
6、英语熟练，可阅读技术文献及国际标准。