干法刻蚀工程师

☆☆☆薪资面议☆☆☆

任职要求：
1、本科及以上学历（材料科学与工程、微电子学与固体电子学、半导体器件、纳米科学与技术、等离子体物理等相关专业），应届生或1-3年相关工作经验均可；
2、具备扎实的干法刻蚀理论基础，熟悉ICP、RIE、IBE工艺的工作原理、刻蚀机理及关键影响因素，能快速识别刻蚀工艺中的核心问题，具备实验设计、参数调试、问题排查与解决的能力；
3、熟练掌握至少1种干法刻蚀设备（ICP刻蚀机、RIE刻蚀机、IBE刻蚀机）的操作与维护方法，能独立完成工艺参数调试、样品刻蚀及设备日常点检；熟悉刻蚀气体（如SF6、CHF3、Cl2等）的特性与配比原则，了解刻蚀掩模的选择与使用方法；
4、能熟练运用SEM、AFM等工艺表征设备及数据处理工具，具备良好的数据处理、分析与总结能力，能通过数据分析定位刻蚀工艺问题、优化工艺参数，形成完整的工艺优化报告；
5、对器件干法刻蚀领域有浓厚兴趣，具备严谨的工作态度、较强的责任心和执行力，注重细节（刻蚀工艺精度与稳定性核心要求），能严格遵守工艺规范与设备操作准则；
6、具备良好的团队协作精神与沟通能力，能高效对接研发、测试、量产等不同环节的同事，推动刻蚀工艺相关工作落地；
7、具备较强的学习能力和抗压能力，能快速适应工艺迭代需求，主动学习新型刻蚀技术、设备操作及行业前沿知识，勇于解决刻蚀工艺难题。