光刻工程师

【岗位职责】
1. 负责光刻工艺的日常维护、异常处理及改进，提升良率与稳定性；
2. 负责新产品/新工艺的光刻相关实验设计与数据验证；
3. 制定并优化光刻、涂胶、显影等工艺标准流程（SOP）及规范；
4. 管理光刻设备（光刻机、涂胶显影机等）的日常监控与基础维护；
5. 配合版图与设计人员，评估光刻工艺窗口，解决图形化相关缺陷；
6. 参与新设备的选型、调试与验收，完成工艺匹配与量产适配；
7. 分析与优化光刻胶、化学药液、掩模版等材料使用的工艺窗口。
【任职资格】
1. 学历专业： 本科及以上，微电子、物理、光学、材料、化学、集成电路等相关专业；
2. 经验要求： 2年以上半导体光刻工艺经验，熟悉Nikon扫描光刻机、SUSS/EVG自动光刻机、芯源涂胶显影设备者优先；有MEMS光刻工艺经验者优先；
3. 技术能力： 熟练掌握光刻工艺原理，理解光学成像、光刻胶化学反应；具备SPC、CPK等统计分析能力，能独立设计实验并解读数据；
4. 软件工具： 熟练使用Office，了解版图设计软件L-Edit、Cad者加分；
5. 软素质： 逻辑清晰，善于沟通，具备较强的数据分析和解决复杂工程问题的能力；适应净化间工作环境，遇到紧急任务时能够加班。